Потери тока короткого замыкания в фотоэлектрических структурах с субмикронным n p переходом, обусловленные накоплением неравновесного поверхностного заряда
Богатов Н.М., Матвеякин М.П., Родоманов Р.Р. Потери тока короткого замыкания в фотоэлектрических структурах с субмикронным n p переходом, обусловленные накоплением неравновесного поверхностного заряда // Современные проблемы науки и образования
.
URL: http://econf.rae.ru/article/226 (дата обращения: 04.04.2025).